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TDF系列X射線晶體分析儀
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產品描述
參數
TDF系列X射線晶體分析儀
概述
TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質內部微觀結構的一種大型分析儀器，主要應用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點陣參
數、測定殘余應力、研究板材、棒材的結構、研究未知物質的結構和單晶位錯等。
特點
TDF系列X射線晶體分析儀采用立式管套，四個窗口可以同時使用。
TDF系列X射線晶體分析儀采用進口PLC控制技術，控制精度高、抗干擾性好，可實現本系統可靠地工作，PLC控制高壓的
開關、升降、具有自動訓練X光管的功能，有效的延長X射線管及儀器的使用壽命。
高壓發生器（采用進口PLC控制）
管電壓：10-60KV；
管電流：2-60mA；
管電壓、管電流穩定度≤±0.005%；
額定輸出功率：3KW。
高壓電纜
介電電壓≥100KV；
長度：2M。
X射線管
額定功率：2.4KW；
焦點尺寸（mm2）：點焦點（1×1）線焦點（1×10）；
靶材：Cu、Co、Fe、Cr、Mo、W等。
X射線照相機
勞厄相機（大小粉末）
平板相機
三維樣品臺
美國Multiwire相機
X射線防護罩
采用高密度、高透光性道德鉛玻璃作為X射線防護罩，外射線量不大于0.1µ Sv/h
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